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Article summary:

1. 实验成功制造出具有高数值孔径和宽角度的硅氮化物金属透镜,可用于微型光纤、微内窥镜和智能手机等领域的光学透镜微型化。

2. 通过制造厚度为695纳米的六边形阵列,最小相邻纳米柱间距为42纳米,实现了可见光谱范围内的硅氮化物发散型金属透镜。

3. 利用成熟的CMOS兼容制造工艺,在一个厘米大小的硅氮化物发散型金属透镜上制造了超过50亿个纳米柱,展示了高质量的广角成像。

Article analysis:

作为一篇科学论文,该文章并没有明显的偏见或宣传内容。然而,它可能存在一些片面报道和缺失的考虑点。

首先,文章强调了硅氮化物(SiN)金属透镜在微型光纤、微内窥镜和智能手机等领域中的潜在应用。然而,它没有探讨这些应用可能带来的风险或挑战,例如透镜制造成本、可靠性和耐久性等方面。

其次,文章提到了使用成熟的CMOS兼容制造工艺制作大尺寸SiN金属透镜的能力。然而,它没有探讨这种工艺对环境或人类健康可能产生的影响。

此外,在描述实验结果时,文章没有提供足够的数据支持其所提出主张。例如,在描述微型金属透镜时,它声称具有亚波长分辨率,并能将物体缩小至单模光纤芯大小。然而,它没有提供任何实验数据来证明这些主张。

最后,在作者和机构介绍中,文章只列出了中国和英国的机构和作者,并未平等地呈现其他国家或地区的贡献者。

总之,虽然该文章没有明显的偏见或宣传内容,但它可能存在一些片面报道和缺失的考虑点。为了更全面地评估其结果和应用潜力,需要进一步研究和探讨。